电子束曝光技术
2024-11-05 09:49:03 0 举报AI智能生成
电子束曝光技术总结
作者其他创作
大纲/内容
概念&简介
定义：电子束曝光是利用电子束在涂有感光胶的晶片上直接绘画或投影复印图形的技术
曝光系统
JEOL
Leica
Raith
Vistec
曝光系统分类
按工作方式分
直接曝光
投影式曝光
按电子束形状分
高斯圆形电子束曝光系统
成型电子束曝光系统
固定
可变
按扫描方式分
光栅扫描电子束曝光系统
矢量扫描电子束曝光系统
重要关注指标
最小束直径
受到波长和误差的影响
加速电压
电子束流
扫描速度
和通量和精度有关
扫描场大小
工作台移动精度
套准精度
非常重要的精度
场拼接精度
波导的制备很关注
电子束抗蚀剂
光刻胶分类
PMMA
正型
10nm
100(uC/cm^2)
多丙烯酸酯聚合物
高分辨率、高对比度、低灵敏度
灵敏度随着相对分子质量减少而增加
灵敏度随着显影液的比例增加而增加
可以用深紫外或X射线曝光
抗刻蚀能力差
ZEP520
正型
10nm
30(uC/cm^2)
特性
兼具高分辨率、高对比度、高灵敏度，抗刻蚀能力强
HSQ
负型
6nm
100(uC/cm^2)
一种硅脂，新型高分辨率电子束灵敏材料，空气中容易胶冻固化
ma-N2400
负型
80nm
60(uC/cm^2)
正抗蚀剂
入射粒子将聚合物链打断，曝光的区域变得更容易溶解，显影完毕后，曝光图形阴影部分的胶都溶解
负抗蚀剂
入射粒子将聚合物链接起来，曝光的区域变得更不容易溶解，显影完毕后，曝光图形阴影以外部分的胶都溶解
化学放大抗蚀剂
优点：高灵敏度、高分辨率和对比度，抗干法刻蚀能力强
缺点：对后烘条件要求苛刻，正抗蚀剂的表面易受空气中化学物质污染
影响抗蚀剂图形质量参数
扛蚀剂的厚度
曝光剂量与邻近效应
灵敏度与对比度
分辨率
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